微波反應(yīng)器

型號:BXS12-SXL9-1           

儀器介紹

Microwave Synthesis System 微波技術(shù)應(yīng)用于有機(jī)合成反應(yīng)，反應(yīng)速度比常規(guī)方法要加快數(shù)十甚至數(shù)千倍，并且能合成出常規(guī)方法難以生成的物質(zhì)，正越來越廣泛運(yùn)用于材料，制藥，化工及其他相關(guān)科研和教學(xué)領(lǐng)域。該產(chǎn)品采用*的微波功率自動變頻控制和非脈沖連續(xù)微波加熱技術(shù)，通過高精度的非接觸紅外溫度傳感器實(shí)時監(jiān)測和控制反應(yīng)容器內(nèi)的溫度。并同時配備電磁和機(jī)械兩種攪拌方式，在反應(yīng)過程中，可進(jìn)行冷凝回流、滴液和分水等操作，還可通過彩色液晶顯示器實(shí)時觀察反應(yīng)容器內(nèi)的反應(yīng)變化（及時掌握反應(yīng)情況，探索*反應(yīng)條件。除用于合成反應(yīng)外，該儀器還可用于常壓微波萃取反應(yīng)。

技術(shù)參數(shù)

1．微波功率隨溫度自動變頻控制，非脈沖微波連續(xù)加熱，功率自動變化范圍：0-1000W,zui大功率設(shè)置分10檔,檔距100W；在每一檔位，微波功率在0到該檔zui大功率之間隨反應(yīng)溫度自動調(diào)節(jié)；

2．非接觸式紅外溫度傳感器，實(shí)時監(jiān)測和控制反應(yīng)溫度，控溫范圍：室溫-250℃（可選裝室溫～500℃或室溫～900℃），精度±1℃，任意設(shè)定并實(shí)時顯示，紅外測溫測量的是反應(yīng)容器內(nèi)反應(yīng)物質(zhì)發(fā)熱產(chǎn)生的紅外線，比鉑電阻測溫更靈敏，更準(zhǔn)確，更安全，操作更簡便；

3．配備電磁和機(jī)械兩種攪拌方式，根據(jù)不同反應(yīng)物質(zhì)隨意切換，攪拌速度連續(xù)可調(diào)并實(shí)時顯示；

4．用戶可根據(jù)反應(yīng)條件任意加裝標(biāo)準(zhǔn)接口的反應(yīng)容器（容積50ml～1000ml以上）及冷凝回流、滴加、補(bǔ)液和分水等裝置；

5．配備爐腔內(nèi)攝像裝置,并通過爐腔外TFT彩色液晶顯示器，實(shí)時觀察或錄像反應(yīng)過程和變化

6．內(nèi)置10套反應(yīng)方案，用戶可自行編輯、存儲、修改和刪除各套反應(yīng)方案及各項(xiàng)反應(yīng)控制參數(shù)（包括工步、溫度、時間和攪拌速度等等）。

7．整機(jī)安全性能和技術(shù)指標(biāo)通過中國測試中心認(rèn)證（并在ISO9001:2000質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)下完成設(shè)計(jì)和生產(chǎn)。

主要特點(diǎn)

1.微波功率隨溫度自動反饋控制，非脈沖微波連續(xù)加熱. 自動調(diào)整和控制反應(yīng)過程，達(dá)到準(zhǔn)確的溫度和反應(yīng)過程控制效果，確保合成反應(yīng)的均勻性和*性。比傳統(tǒng)脈沖式加熱，微波作用時間更長，產(chǎn)率更高。

2.高頻率和高精度的紅外溫度傳感器，監(jiān)測反應(yīng)容器內(nèi)反應(yīng)物質(zhì)發(fā)熱產(chǎn)生的紅外光線來測量和控制反應(yīng)容器內(nèi)的溫度變化過程，隨時檢測到反應(yīng)容器內(nèi)的溫度數(shù)值，溫度控制范圍：0-250℃（根據(jù)反應(yīng)要求可選裝室溫～500℃或室溫～900℃），精度±1℃，無滯后和延遲效應(yīng)。比鉑電阻測溫更安全，更靈敏，更準(zhǔn)確，操作更簡便。

3.同時配備電磁和機(jī)械攪拌裝置，用戶可根據(jù)反應(yīng)物質(zhì)情況自行選擇攪拌方式，攪拌速度連續(xù)可調(diào)并實(shí)時顯示。適用于各種粘稠度的液體和固體反應(yīng)物。

4.內(nèi)置10套反應(yīng)方案，任意調(diào)用。用戶可自行編輯、存儲、修改和刪除各套反應(yīng)方案及各項(xiàng)反應(yīng)控制參數(shù)（包括工步，溫度，時間和攪拌速度等）

5.配備爐腔內(nèi)攝像裝置,并通過爐腔外的TFT彩色液晶（或CRT）顯示器，隨時觀察或錄像爐腔內(nèi)反應(yīng)過程，掌握實(shí)時的反應(yīng)情況。

6.微波爐腔上的任何開口都對人體安全，整機(jī)安全性能通過國家質(zhì)檢部門安全認(rèn)證。

7.高強(qiáng)度的防腐涂層確保爐腔持久抵御各種有機(jī)溶劑和酸霧蒸汽的侵蝕，并配備大容量排風(fēng)裝置。

配置：

自動功率變頻微波加熱爐 1 臺

紅外溫控系統(tǒng) （500℃） 1 套

TFT彩色液晶顯示和攝錄系統(tǒng) 1 套

冷凝/回流/分液 裝置 1 套

攪拌（電磁和機(jī)械）裝置 1 套

反應(yīng)容器 （100-500ml） 3 套

Microwave Synthesis System is a refined, professional system designed for synthetic chemistry applications. It combines:

1. A microwave cavity for generating microwave field;

2. Sensors to monitor reaction parameters for feedback-based process control;

3. Both mechanical and magnetic variable speed stirring;

4. On-site camera and TFT LCD monitor system.

Technical Data:

1. Continuous Microwave Power, Non-pulsed Power Supply;

2. Maximum Microwave Power:1000W, Dynamically adjusted between 0¡«1000W based on temperature of reaction flask.

3. Advanced infrared temperature sensor installed in the side wall of the cavity monitors the temperature of reaction flask, maximum controllable temperature 250¡æ or （400¡æ and 900¡æ optional）

4. Both mechanical and magnetic variable speed stirring, speed can be adjusted and monitored;

5. Standard interface for various reaction flasks （50ml to 1000ml）;

6. Vivid on-site camera and TFT LCD display to closely monitor the reaction process;

7. Preset up to 10 reaction methods for different synthetic chemistry reactions.

8. Large volume exhaust module to clear vapors from cavity.

Features:

1. Preset up to 10 reaction methods programmable for steps, temperature, time, microwave power, etc.

2. Microwave power is automatically adjusted along with the reaction temperature to provide non-pulse continuous microwave heating.

3. Advanced IR temperature sensor monitors and controls the temperature of reaction. Controllable temperature range: Room temperature - 250 degree, Precision: 1 degree

4. Two stirring device （mechanical or magnetic） with adjustable speed and real-time display.

5. Special treatment to the interior of microwave cavity to protect the unit from aggressive acids and solvents.

6. TFT color display to on-site monitor and record the reaction process inside cavity.

北京北信科儀分析儀器有限公司

地址：北京市昌平區(qū)西三旗龍旗廣場2號樓

：李

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